Del 3
Del 5 i serien Research at NaMLab
Development of HfO2-Based Ferroelectric Memories for Future CMOS Technology Nodes
Häftad, Engelska, 2016
739 kr
Beställningsvara. Skickas inom 3-6 vardagar. Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249 kr.
Produktinformation
- Utgivningsdatum2016-04-08
- Mått148 x 210 x 8 mm
- Vikt172 g
- FormatHäftad
- SpråkEngelska
- SerieResearch at NaMLab
- Antal sidor138
- Upplaga16001
- FörlagBooks on Demand
- ISBN9783739248943
Tillhör följande kategorier
Hoppa över listan
Du kanske också är intresserad av
Del 2
Leakage Current and Defect Characterization of Short Channel Mosfets
Guntrade Roll
Häftad, 2012
1 559 kr
Del 4
Electrical Characterisation of Ferroelectric Field Effect Transistors Based on Ferroelectric Hfo_2thin Films
Ekaterina Yurchuk
Häftad, 2015
1 289 kr