Understanding Key Molecular Properties in a CVD Process Feasibility Study
Design of Volatile Non-halogenated Precursors for the Chemical Vapor Deposition (CVD) of Copper
Häftad, Tyska, 2002
639 kr
Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar
Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249 kr.Produktinformation
- Utgivningsdatum2002-08-29
- Mått189 x 246 x 11 mm
- Vikt386 g
- FormatHäftad
- SpråkTyska
- Antal sidor212
- Upplaga2001
- FörlagBooks on Demand
- ISBN9783831142743
Tillhör följande kategorier
Hoppa över listan
Du kanske också är intresserad av
- Nyhet
Del 6
- Nyhet
Del 2
- Nyhet
- Nyhet
- Nyhet
- Nyhet
Del 1
- Nyhet
Del 22