bokomslag Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Data & IT

Plasma Processes for Semiconductor Fabrication

W N G Hitchon W Nicholas G Hitchon W Nicholas G Hitchon Haroon Ahmad Michael Pepper

Inbunden

2149:-

Funktionen begränsas av dina webbläsarinställningar (t.ex. privat läge).

Uppskattad leveranstid 5-10 arbetsdagar

Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249:-

  • 232 sidor
  • 1999
Self-contained book providing an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. Presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. Suitable as a graduate-level textbook, and will also be a useful reference for practising engineers in the semiconductor industry.
  • Författare: W N G Hitchon, W Nicholas G Hitchon, W Nicholas G Hitchon, Haroon Ahmad, Michael Pepper
  • Format: Inbunden
  • ISBN: 9780521591751
  • Språk: Engelska
  • Antal sidor: 232
  • Utgivningsdatum: 1999-01-28
  • Förlag: Cambridge University Press