Inbunden, Engelska, 1998
Del 7 i serien Series on Semiconductor Science and Technology
Plasma Etching
Fundamentals and Applications
Av M. Sugawara
5079 kr
Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar. Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249 kr.
Beskrivning
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Produktinformation
- Utgivningsdatum: 1998-05-28
- Mått: 163 x 242 x 23 mm
- Vikt: 743 g
- Format: Inbunden
- Språk: Engelska
- Serie: Series on Semiconductor Science and Technology
- Antal sidor: 356
- Förlag: OUP OXFORD
- ISBN: 9780198562870
Utforska kategorier
Mer information
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
Butikslager
Ej i lager i butik.
Betyg & recensioner
0 recensioner
Inga recensioner tillgängliga.