Del 5
Del 7 i serien Series on Semiconductor Science and Technology
Plasma Etching
Fundamentals and Applications
Inbunden, Engelska, 1998
4 969 kr
Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar. Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249 kr.
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Produktinformation
- Utgivningsdatum1998-05-28
- Mått163 x 242 x 23 mm
- Vikt743 g
- FormatInbunden
- SpråkEngelska
- SerieSeries on Semiconductor Science and Technology
- Antal sidor356
- FörlagOUP OXFORD
- ISBN9780198562870
Tillhör följande kategorier
Hoppa över listan
Du kanske också är intresserad av
The National Churches of England, Ireland, and Scotland 1801-46
Stewart J. Brown
Inbunden, 2001
4 969 kr
Del 96
Del 9
The Mechanisms of Reactions Influencing Atmospheric Ozone
Jack G. Calvert, John J. Orlando, William R. Stockwell, Timothy J. Wallington
Inbunden, 2015
4 969 kr