Del 5
Del 7 i serien Series on Semiconductor Science and Technology
Plasma Etching
Fundamentals and Applications
Inbunden, Engelska, 1998
3 929 kr
Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar. Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249 kr.
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Produktinformation
- Utgivningsdatum1998-05-28
- Mått163 x 242 x 23 mm
- Vikt743 g
- FormatInbunden
- SpråkEngelska
- SerieSeries on Semiconductor Science and Technology
- Antal sidor356
- FörlagOUP OXFORD
- ISBN9780198562870
Tillhör följande kategorier
Hoppa över listan
Du kanske också är intresserad av
Del 16
Microcavities
Alexey Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy
Häftad, 2011
1 099 kr
Del 22
Spin Current
Sadamichi Maekawa, Sergio O. Valenzuela, Eiji Saitoh, Takashi Kimura
Inbunden, 2017
2 139 kr
Del 9
Del 12
Del 23
Del 5
Del 21
Microcavities
Alexey V. Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy
Inbunden, 2017
1 559 kr
Del 4