Couches de silicium nanoporeuses obtenues par dissolution anodique

Cet ouvrage examine et tudie les caractristiques des structures de silicium nanoporeux fabriques par gravure anodique de tranches de silicium. Le silicium poreux prsente de nouvelles proprits matrielles qui diffrent de celles du silicium massif. Ces nouvelles proprits sont intressantes et applicables dans divers domaines tels que l'optique, l'optolectronique, la technologie des capteurs et la biomdecine. La comprhension de la dynamique et des mcanismes impliqus dans le processus de gravure, tels que les relations de cause effet, les proprits internes des plaquettes et les conditions anodiques externes du processus de gravure, est donc essentielle pour aider les technologues fabriquer les structures poreuses souhaites des fins diverses. Diverses tranches de silicium de proprits diffrentes sont graves dans un environnement contrl avec des conditions externes variables telles que la densit de courant, les solutions d'lectrolyte, les tensioactifs de surface et le temps de gravure. Les relations et dpendances telles que l'paisseur de la couche poreuse grave, le taux de gravure et le taux de dgradation des structures et de la morphologie de la surface sur les conditions anodiques externes sont tablies.