MEMS-Technologie

Seit der Entdeckung der Mikrosule durch Chang im Jahr 1980 ist das Interesse an miniaturisierten Mikrosulen aufgrund ihrer vielfltigen Einsatzmglichkeiten wie direkte E-Beam-Lithographie, kostengnstige Gerte, Niederspannungs-SEM und tragbare SEM aufgrund ihrer hohen Durchsatzleistung immens. Die kompakte Gre ermglicht es, Mikrosulen in Array-Form zusammenzusetzen, was die Abbildungsleistung oder den Durchsatz der Lithografie-Fhigkeit erheblich verbessert. Wir haben drei verschiedene Designs von Mikrosulen hergestellt und untersucht, die alle die modifizierte Quelllinse, verschiedene Arbeitsabstnde sowie mit und ohne Objektivlinse verwenden. Die Bildqualitt und der Sondenstrom aller neu hergestellten Mikrosulen wurden untersucht. Die elektrostatischen Linsen wurden mit Hilfe der MEMS-Technik hergestellt. Der 2D-CNT-Feldemitter wurde als Quellenemitter fr diese Sulen verwendet. Unsere Ergebnisse zeigten, dass von allen drei Mikrosulenstrukturen die ultraminiaturisierte Mikrosule den hchsten Sondenstrom (~9,5 nA) aufwies. Eine ultraminiaturisierte Mikrosule kann ein vielversprechender Kandidat fr die nchste Generation von Lithographie-Werkzeugen sein, da das Design fr integrierte Mikrosulen im Wafer-Mastab besser geeignet ist als herkmmliche Mikrosulen.