Design for Manufacturability with Advanced Lithography
Häftad, Engelska, 2016
699 kr
Beställningsvara. Skickas inom 10-15 vardagar. Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249 kr.
Finns i fler format (1)
This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL).
Produktinformation
- Utgivningsdatum2016-08-23
- Mått155 x 235 x 10 mm
- Vikt277 g
- FormatHäftad
- SpråkEngelska
- Antal sidor164
- FörlagSpringer International Publishing AG
- ISBN9783319373935
Tillhör följande kategorier
Hoppa över listan
Du kanske också är intresserad av
Synergistic Framework for Hardware IP Privacy and Integrity Protection
Meng Li, David Z. Pan
Inbunden
1 389 kr
Synergistic Framework for Hardware IP Privacy and Integrity Protection
Meng Li, David Z. Pan
Häftad
1 389 kr
- Nyhet
Del 3
- Nyhet
Del 1
- Nyhet
- Nyhet
Del 6