Vysokotemperaturnaya Lazerno-Indutsirovannaya Plazma V Mikrokanalakh

Rabota otnositsya k vazhnomu i burno razvivayushchemusya napravleniyu lazernoy fiziki - vzaimodeystviyu s veshchestvom ul'trakorotkikh impul'sov lazernogo izlucheniya (UKI). Oblast' primeneniya UKI chrezvychayno shiroka: ot pretsizionnoy obrabotki materialov i ikh nanostrukturirovaniya do modelirovaniya astrofizicheskoy plazmy. Aktual'nost' raboty obuslovlena postoyanno rasshiryayushchimsya ispol'zovaniem UKI dlya pretsizionnoy obrabotki materialov i bol'shim potentsialom lazernoy plazmy v kachestve kompaktnogo istochnika sverkhkorotkikh rentgenovskikh impul'sov. Osnovnym napravleniem issledovaniy yavlyaetsya analiz opticheskikh i rentgenovskikh spektrov lazernoy plazmy, voznikayushchey pri vozdeystvii intensivnykh femtosekundnykh impul'sov na tverdye misheni. K osobennostyam raboty mozhno otnesti raznoobrazie ispol'zuemykh misheney, vklyuchaya metally (Cu, Ti), dielektricheskie kristally (ftoridy Li i Ca) i strukturno-neodnorodnye organicheskie materialy (dentin), a takzhe izuchenie malo issledovannogo voprosa zavisimosti svoystv generiruemoy plazmy ot geometrii obluchaemoy poverkhnosti, izmenyayushcheysya v protsesse mnogokratnogo oblucheniya. Kniga budet interesna prezhde vsego litsam, rabotayushchim v oblasti lazernoy fiziki i ee prilozheniy.