Sntese de Filmes de Carbono a Plasma

Este trabalho visou, por meio de processos a plasma, depositar filmes finos de carbono em determinados substratos (vidro, silcio e vidro recoberto com FTO) e ento corro-los em plasma de SF6 combinado ora com H2, O2, e Ar a fim de se aumentar a rugosidade e consequentemente a rea de contato desses filmes com o eletrlito de uma clula solar sensibilizada por corante (DSSC). Os filmes produzidos foram caracterizados e estudados por meio de anlises de perfilometria, MEV, DRX, XPS, AFM, RAMAN, FTIR, goniometria e medida de resistncia de folha por 4 pontas. Essas anlises mostraram que os filmes que passaram pelo processo de texturizao a plasma obtiveram um padro nano estrutural caracterstico para cada combinao de gases utilizados. A anlise de goniometria mostrou que o TT fez com que os filmes depositados se tornassem hidrofbicos. Porm, aps submet-los ao processo de texturizao a plasma eles se tornaram super hidroflicos. Tais resultados (aumento de rugosidade e hidrofilicidade) so de grande importncia para a aplicao desses filmes em contra eletrodos de DSSCs.