Recobrimentos depositados por Solution Plasma Spray

Compsitos de Carbono/Carbono (C/C) so amplamente utilizados em componentes termoestruturais, principalmente pelo setor aeroespacial. Entretanto, o carbono possui baixa resistncia em ambientes ablativos, limitando sua aplicao em sistemas de proteo trmica. Este problema pode ser superado protegendo o compsito com camadas de passivao a base de materiais cermicos de baixa eficincia cataltica em reaes com oxignio e nitrognio em elevadas temperaturas. Neste contexto, este trabalho tem como objetivo principal a sntese de recobrimentos espessos com gradiente composicional entre SiO2/SiC depositados sobre compsitos C/C utilizando um novo processo chamado High Velocity Solution Plasma Spray (HVSPS). Estes recobrimentos so formados a partir de reaes entre o compsito C/C e a soluo coloidal de Si(OH)4 aspergida por jato de plasma supersnico gerado por uma tocha de corrente contnua. A tocha de plasma possui uma concepo distinta das tochas convencionais, elevando o tempo de interao com regies de plasma em elevadas temperaturas.