Nitretao em plasma com gaiola catdica

A nitretao inica um dos processos de revestimento superficial dos mais importantes, mas apresenta alguns problemas inerentes, principalmente, na nitretao de peas com geometria complexa. Nos ltimos quatro anos surgiu uma nova tcnica de nitretao a plasma, denominada de ASPN (Active Screen Plasma Nitriding), na qual as amostras so envolvidas por uma tela polarizada catodicamente e com ela possvel obter uma camada nitretada, perfeitamente uniforme, independente da forma da amostra. O nosso trabalho baseia-se no desenvolvimento, no mbito do LabPlasma, de uma nova tcnica de nitretao em plasma, denominada nitretao em gaiola catdica (NGC) - depsito de patente PI 0603213-3 - derivada da ASPN, mas que utiliza o efeito de ctodo oco para aumentar a eficincia do processo de nitretao. Esta tcnica apresentou bastante eficcia na nitretao de vrios tipos de aos, nas mais variadas condies de tratamento, proporcionando a obteno de camadas mais espessas e de maior dureza, quando comparada com a ASPN e com a nitretao inica convencional, alm de eliminar problemas de irregularidades associados tcnica convencional.